- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/26 - Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/26
Brevets de cette classe: 1435
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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---|---|---|
FUJIFILM Corporation | 27102 |
132 |
JSR Corporation | 2476 |
72 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
70 |
Nissan Chemical Corporation | 1725 |
64 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 5132 |
58 |
Nissan Chemical Industries, Ltd. | 1822 |
58 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
58 |
Tokyo Electron Limited | 11599 |
52 |
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3188 |
51 |
Micron Technology, Inc. | 24960 |
35 |
MacDermid Graphics Solutions, LLC | 125 |
29 |
Eastman Kodak Company | 3444 |
23 |
International Business Machines Corporation | 60644 |
22 |
Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
19 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
18 |
Rohm and Haas Electronic Materials LLC | 637 |
18 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
16 |
GLOBALFOUNDRIES U.S. Inc. | 6459 |
16 |
Samsung SDI Co., Ltd. | 6671 |
14 |
Cheil Industries Inc. | 944 |
14 |
Autres propriétaires | 596 |